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PHMRF-100P磁流變拋光機床
設備用途
本設備主要應用于高精度光學玻璃、石英玻璃、藍寶石晶體材料，陶瓷材料，半導體晶片等硬脆性元件的精密研磨拋光。
設備簡介
機床的環性非導磁研拋盤采用高密度樹脂組成，具有運行平穩不變形、無沖擊、噪音低的特點，環形研拋盤對稱分布二到四軸工件夾持裝置，Z軸進給方向采用獨立伺服進給，精確控制每個拋光軸的拋光間隙。工件自轉采用高速伺服驅動，研拋盤驅動采用高精度行星減速機驅動。
本機床的磁場發生裝置采用高導磁材料設計。磁極各發生器設計成可拆分防結構，根據不同工件的研拋特點，可改變磁極的形狀以適應工件拋光的工藝改變。通過調節磁場和發生器的電流從而控制磁流變液的剪切力。磁場發生器采用內置銅管水冷設計，可有效控制裝置的升溫引起磁場變化而影響磁流變液的拋光穩定性。
機床配有專用的磁流變液循環裝置，引用回收裝置將從拋光區域的磁流變液進行回收處理。能夠始終保持磁流變也的成分均勻及溫度穩定，從而保證磁流變拋光在一定的工況下，保持最佳的拋光效果。
磁流變液采用輝碟公司菲博士® PHMW-W01A型水基磁流變液及PHMW-OL01A油基磁流變拋光液，根據不同工件材質不同選用不同的磁流變液。
與傳統的超精密加工相比，PHMRF-100P磁流變拋光機床能夠獲得質量較高的光學表面。能夠獲得比較復雜的表面形狀，通過控制磁場發生器的電流來控制切削去除量的大小。不會存在刀具磨損，堵塞現象，在可控磁場的作用下，刀具形狀誤差及刀具運動的振動誤差，摩擦誤差等在磁流變拋光中對加工精度影響極小。
PHMRF-100P磁流變拋光機床技術參數
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研拋盤材質 |
高密度樹脂 |
研拋盤外徑 |
600mm/800mm |
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研拋盤形狀 |
環形 |
研拋盤線速度 |
10m/min~100m/min |
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磁極對數 |
2對/4對 |
磁極高度 |
50mm/100mm |
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勵磁電壓 |
0~24Vdc/0~24V脈沖 |
主軸驅動 |
交流伺服 |
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工件主軸轉速 |
0~5000RPM |
主軸數量 |
2軸/4軸 |
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Z軸行程 |
200mm/300mm |
Z軸驅動 |
交流伺服 |
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對刀方式 |
壓力式對刀/磁致伸縮對刀 |
磁流變液基材 |
水基或油基PH值=6~8 |
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最大工件尺寸 |
150mm×150mm |
最大去除率 |
0.2μm/min |
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最小表面粗糙度 |
Ra0.06~Ra0.08μm |
工件裝夾方式 |
夾具或真空 |
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サービス
0769-87928085
